或者，假若相對於磁場，閉迴路的定向改變，由於微小元素 勞侖茲力 的改變，磁通量 也會改變。 再舉一個例子，假若閉迴路掃掠過一個均勻的不含時磁場，由於閉迴路的形變，磁通量 會改變。 對於這三個案例，法拉第電磁感應定律正確地計算出磁通量變化率 所產生的電動勢。 其速度比較慢，會因不同種類的粒子而不同，又相依於其電荷量、質量或溫度。 、 、 ；其中， 、 、 分別為電場的三個分量， 是磁導率， 、 、 分別為導電體的移動速度的三個分量， 、 、 分別為輔助磁場的三個分量， 、 、 分別為磁矢勢的三個分量， 是電勢。
各支持部16包含能伸縮的固定部材17與支持固定部材17的浮動部材19。 固定部材17包含能將氣體供給於內部的氣動避震器，對應該氣動避震器內填充的氣體，而能調整其Z軸方向的長度。 基盤12A、12B分別由具有概略平板狀外型的部材所組成，如第三圖所示，在以基準軸LV左右對稱的配置下，在X軸方向以些微間隔大致水平地(平行於XY平面)被配置於地面102的上方。
勞侖茲力: 勞侖茲力方程式的協變形式
接下來，關於本發明的第四實施形態，根據第二十八～三十七圖來說明。 在此，關於相同或同等於前述的第一、第二實施形態的構成部分，採用相同或類似符號並簡略或省略其說明。 又，主控制裝置20根據一對X線性編碼器的各計測值的差，算出計測條71的θz方向的位置(繞Z軸的回轉量)。 勞侖茲力 接下來，關於本發明的第三實施形態，根據第二十五～二十六圖來說明。 上述晶圓交換中，及其晶圓交換後，晶圓台WST2停止於第二負載位置間，主控制裝置20，在對新晶圓W晶圓對準(及其他前處理計測)的開始前，執行微動台位置計測系統70的第二計測頭群73，也就是編碼器55、56、57(及面位置計測系統58)的重設(原點的再設定)。
因此，主控制裝置20根據三個Z頭76a～76c的計測值的平均值，能經常地在曝光位置的正下方進行微動台WFS1(或WFS2)的Z軸方向的位置資訊(面位置資訊)的取得。 又，主控制裝置20用(根據)三個Z頭76a～76c的計測值，加上微動台WFS1(或WFS2)的Z軸方向的位置，計測(算出)θz方向及θy方向的回轉量。 在粗動台WCS1的連結部材92a與微動台WFS1的本體部80之間，如第五圖所示，架設有一對的管86a、86b，用以將從外部供給至連結部材92a的效用力傳達至微動台WFS1。 又，包含第五圖，雖然在各圖式省略圖示，但實際上是一對的管86a、86b分別以複數個管所構成。
勞侖茲力: 平面迴圈
在第一狀態下，浮動接觸防止部材35接觸基盤12A或12B的上面(以下稱該狀態為「著地狀態」)，柱部材33未接觸定盤14A或14B的下面(以下稱該狀態為「上升狀態」)。 如前述請求項1至請求項6中任一項之方法，更包括以下步驟： –冷卻該霧化液體噴流以生成複數個固化粒子。 如請求項1之方法，其中該等行進電磁場具有一交流頻率，該交流頻率至少0.1百萬赫茲、較佳地至少1百萬赫茲、更佳地至少10百萬赫茲、又更佳地至少100百萬赫茲。 如第3圖中所示，線圈總成22、鈍氣噴嘴(拉瓦噴嘴)30、與環形噴嘴50可設計如一共同裝置20。 線圈總成22及鈍氣噴嘴30下游者係一環形噴嘴50，又一鈍氣流52可經由環形噴嘴50而引進整體總成。
可是，計測條驅動系統65可構成為不傳遞地面振動等外部擾動至計測條71。 本第三實施形態的狀況，由於平面馬達可產生Z軸方向的驅動力，所以以計測條驅動系統65來消除前述外部擾動，而可藉由控制計測條71來對應。 對此，計測條驅動系統65不能對計測條71作用Z軸方向的力的狀況，例如也可以在計測條驅動系統內，將設置於地面側的部材(線圈單元18或磁石單元79)，藉由防振機構來設置，而防止振動等外部擾亂。 並行於上述晶圓台WST1的移動，主控制裝置20如第二十三圖所示，在-X方向驅動晶圓台WST2，在投影光學系統PL的正下方決定計測板FM2的位置。 首先，主控制裝置20從用粗動台位置計測系統68B的計測，將晶圓台WST2的XY平面內的位置計測，切換至用編碼器51、52、53的計測。
勞侖茲力: 勞侖茲力定律的重要意義
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屬於頭單元50a的X頭與Y頭將計測光束照射至光柵RGa的同時，藉由分別接受來自光柵RGa的X繞射光柵、Y繞射光柵的繞射光，以頭單元50a的計測中心做為基準，分別計測計測條71(光柵RGa)的X軸方向及Y軸方向的位置資訊。 另一個管運送器TCb如第三圖所示，被配置於形成在基盤12B的+X側的端部的段部12上，經由管Tb2連接於粗動台WCS2的連結部材92a內部的配管部材、配線部材(參照第二圖)。 管運送器TCb在段部12b上以線性馬達等的致動器，來追從晶圓台WST2並在Y軸方向被驅動。 藉由以上的結構，微動台WFS1相對於粗動台WCS1可在六自由度方向移動。 又，此時，以微動台WFS1的驅動所造成的反作用力，使與前述相同的作用力與反作用力定律(運動量保存定律)成立。
勞侖茲力: 磁場
定盤14A的第一部分14A1的+X側端部是從第二部分14A2的+X側端面往+X側突出一部分，定盤14B的第一部分14B1的-X側端部是從第二部分14B2的-X側端面往-X側突出一部分。 一電極42係與感應線圈40同軸地設置，且至少部份地在感應線圈40前方，電極42係藉由感應線圈40熔脫，以生成液體噴流10。 勞侖茲力 圖式所示之電極可譬如由鈦、鈦合金、以鋯、鈮、鎳、或鉭為基礎之合金、貴重金屬或貴重金屬合金、銅或鋁合金、特殊金屬或特殊金屬合金組成。
電力施加到馬達時，磁化的轉子會旋轉到其能找到的最穩定位置，對準定子上主動式線圈的磁場。 要移動到新位置時，線圈的電源關閉，由另一線圈取代，迫使轉子再度移動。 RS Pro Hybrid 等步進馬達能提供小至 勞侖茲力 0.9° 的個別步進角度。 微處理器或邏輯控制下的微型步進能建立高準確度的定位系統，提供任意的有效步進角度。
勞侖茲力: 物理
如申請專利範圍第103項所述之曝光裝置，其中前述移動體，更包含一驅動系統，將第二移動部材對於前述 第一移動部材，在包含前述二維平面內彼此垂直的第一軸方向及第二軸方向的六自由度方向驅動。 如申請專利範圍第65或66項所述之曝光裝置，其中前述相對位置計測系統，具有被一體地安裝於前述第一支持部材的一對感應器；以及前述一對感應器，將計測光束分別照射至前述第二支持部材的長方向的一端部與另一端部，求得對於前述第二支持部材的前述第一支持部材的位置資訊。 如申請專利範圍第36或37項所述之曝光裝置，其中前述相對位置計測系統，具有被一體地安裝於前述第一支持部材的一對感應器；前述一對感應器，將計測光束分別照射至前述第二支持部材的長方向的一端部與另一端部，計測對於前述第二支持部材的前述第一支持部材的相對位置資訊。 如申請專利範圍第17項所述之曝光裝置，其中前述調整裝置包含：相對位置計測系統，求得對於前述第二支持部材的前述第一支持部材的相對位置資訊；驅動系統，沿著至少前述二維平面驅動前述第二支持部材；以及控制裝置，用前述相對位置計測系統的計測資訊來控制前述驅動系統。 又，在上述第四、第五實施形態中，使定盤或基盤複數地分離的分界線的位置，並不限於上述位置。 例如在曝光處有分界，則其部分的平面馬達的推力變弱的狀況，也可以將分界線設定在別處。
並行於上述晶圓台WST1的移動，主控制裝置20如第三十六圖所示，在-X方向驅動晶圓台WST2，在投影光學系統PL的正下方決定計測板FM2的位置。 然後，用標線片對準系統RA1、RA2，來檢測計測板FM2上的一對第一基準記號，檢測對應第一基準記號的標線片R上的標線片對準記號的晶圓面上投影像的相對位置。 勞侖茲力 當對微動台WFS1上的晶圓W曝光結束，則主控制裝置20進行對曝光處200的晶圓台替換(在此從晶圓台WST1替換至晶圓台WST2)，所以將晶圓台WST1在-X方向驅動，使晶圓台WST1移動至定盤14B’上的-X側。 因此，主控制裝置20，根據微動台位置計測系統70(編碼器51、52、53)的計測值，與相對位置計測系統66A的計測值，求得粗動台WCS1的位置，其後，根據粗動台位置計測系統68A的計測值來控制晶圓台WST1的位置。 勞侖茲力 又，此時，主控制裝置20，用粗動台位置計測系統68B來計測晶圓台WST2的位置，根據該計測結果，如第三十五圖所示，將晶圓台WST2在定盤14B’及定盤14A’上以+Y方向驅動(參照第三十五圖中的白色箭頭)。
勞侖茲力: 物理君與薛小貓的生活科學大冒險：從家裡到太空，腦洞大開的226個物理現象與原理
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- 又，例如專利文獻2的第五實施例中，揭露在定盤上面形成的凹部內配置編碼頭的曝光裝置。
- 如前述請求項1至請求項4中任一項之方法，更包括以下步驟： –藉由一環形噴嘴生成又一氣流以衝擊該液體噴流。
- 鈍氣流32流動漫過鈍氣噴嘴30，依層流方式加速由數個接連液滴組成之液體噴流10(與第2圖類似)。
- 管運送器TCb在段部12b上以線性馬達等的致動器，來追從晶圓台WST2並在Y軸方向被驅動。
- 這兩種方式都使用從目標彈回的光波來判斷和障礙物之間的相對距離。
- 相較於加速儀，迴轉儀的設計目標是偵測旋轉動作，同時為加速儀的訊號提供輔助訊號。